十多年前开始在真空电子技术相关工艺设备中应用低温泵、干泵无油系统来获得超高真空，效果满意。这次尝试将低温泵快速、洁净和可靠的独特优势应用到真空炉中。将低温泵并入真空系统中，达到清洁的超高真空环境。本文以实例介绍了低温泵在超高真空炉中的应用； 重点介绍了低温泵真空系统的设计思路，真空系统的主要配置和注意事项，低温泵的选型计算，并用图示方法详细介绍了低温泵系统的安装、使用和维护等环节。对同类真空炉的研发和低温泵的应用都有参考价值。通过严格把关各研发环节，按照超高真空规范进行清洗，除气和烘烤，最后真空炉的极限压力达到了2 × 10-7Pa，将常规的真空炉极限压力延伸了近一个数量级。近年来无油真空泵在半导体行业为代表的领域被引进并广泛应用。从而低温泵+ 干泵为代表的无油超高真空获得系统在半导体电子技术、光学镀膜系统和航空航天领域得到了广泛推广。
通过低温介质将抽气面温度降低到20 K 以下，抽气面就可以冷凝沸点温度较低的气体，从而抽出大量的气体。这种利用低温抽气面将气体冷凝的抽气泵叫低温泵，或冷凝泵。是利用低温介质降低表面温度后将气体冷凝、吸附或是冷凝+ 吸附，将被抽空间的压力降低，而获得真空或维持真空状态的装置。
作为完整的抽气系统，低温泵由两部分组成，主体为真空泵体，第二部分为压缩机。现在得到广泛应用的都是制冷机式低温泵，其核心是低温制冷机。工作基本流程为：氦气首先被压缩到高温高压状态；再通过热交换器被冷却为常温氦气；经纯化后的高纯氦气最后经汽缸完成绝热膨胀，变成低温氦气。如此不断循环，氦气被不断降温，成为制冷介质—低温氦气。
选择低温泵的优势有：
①洁净，纯无油，抽气范围宽，可快速获得理想的超高真空环境；
②与口径相同的其它真空泵相比，低温泵有更大的抽速，尤其抽出水蒸汽的能力；
③对被抽气体无选择，杂质颗粒而不影响系统工作；
④可以任意角度安装，没有运动部件，不需要前级泵，运行和维护成本低；
⑤暴露大气对系统影响小，压缩机断水后可以自保护，所以可以实现无人值守。
真空系统的设计
真空炉选用低温泵系统，最大的问题就是解决热负载。真空炉中的热负载主要来自于三方面：
①来自炉体侧的热辐射；
②粘滞流状态下，气体分子携带走热量；
③来自泵口管道的热传导和辐射热量。
低温泵工作在分子流状态下，热源②可忽略。热源③可以通过增加水冷结构消除。设计时主要考虑来自炉体的热负载对低温泵的影响。真空炉内选择多层金属反射屏。真空炉最高加热温度为1300℃，共设计6 层反射屏，内3 层选钼屏，其余各层选不锈钢反射屏。理论上加热器通过辐射到达容器壁的温度约200℃，温度随着时间会慢慢升高。多数情形，低温泵可装个90°弯头，以避免与真空室直通，这就进一步减少了传给泵的热负载，这也是减少热辐射最简单有效的方法。在分子流状态下，弯头对流导的影响可忽略，对超高真空系统而言比挡板更有效。为了进一步减少泵口管道热传导热和辐射对低温泵的影响，在弯头管道上设计了水冷结构。真空系统结构图如图1。
图1 真空系统结构图
为了获得理想的超高真空，同时运用冗余技术，我们设计了分子泵机组和低温泵并联的真空系统。分子泵机组可以作为系统的预抽，这样当低温泵降温后可以直接在分子流状态下工作。
另外当真空室放气量比较大时，可以及时切换到分子泵抽气，这样既可以延长低温泵的抽气饱和时间，也可以节约再生时间。分子泵、低温泵都通过气动超高真空闸板阀和真空室连接。为保证系统洁净无油，同时最大程度发挥低温泵的抽气优势，选择了纯无油磁悬浮分子泵，前级泵选择了涡旋式干泵，低温泵再生时也用干泵抽气。真空系统原理图如图2 真空系统主要配置。
图2 真空系统原理图
当分子泵机组和压缩机同时启动，大约120 min后低温泵二级冷头从室温降到15 K 以下（可以开启低温泵阀门），此时真空炉系统的真空度可以达到10-5Pa，这样低温泵可以直接从高真空开始抽气。
表1 真空系统主要配置
结论
本套设备是一套典型的中型真空炉，应用于超高真空条件下的扩散焊工艺，热容量和表面积都大于同规格的热处理炉，自动化程度较高，配置低温泵更能发挥其显著优势。真空炉最终测试的极限压力为2 × 10-7 Pa( 冷态、空炉) ，压升率为0.002 Pa /h。指标优于常用高真空炉。目前国内 低温泵的应用大多还依赖进口，和相同口径的其它泵相比，价格也比较昂贵。但在高洁净工艺环境、纯无油真空和超高真空领域仍然有很大的优势，并且从使用成本和寿命上比较，低温泵并不比其它泵差。国内低温泵的研发目前还待成熟，尤其是压缩机技术， 期待国内洁净真空泵行业的兴起。
